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质量水平
检测方案
≥99.99% trace metals basis
形式
liquid
反应适用性
core: hafnium
杂质
Purity excludes ~2000 ppm Zirconium
bp
78 °C/0.01 mmHg (lit.)
mp
<-50 °C
密度
1.324 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES字符串
CCN(C)[Hf](N(C)CC)(N(C)CC)N(C)CC
InChI
1S/4C3H8N.Hf/c4*1-3-4-2;/h4*3H2,1-2H3;/q4*-1;+4
InChI key
NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N
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一般描述
四双（乙基甲基氨）铪（IV）（TEMAH）是一种对水和空气敏感的无色液体。它在 -50 °C 结冰，在 0.1 托下，在 78 °C左右沸腾。
应用
TEMAH 被用作氧化铪（HfO2）薄膜的原子层沉积（ALD）的前体。因为 HfO2 具有 16-25 的高介电常数，所以它通常用作半导体制造中的介电膜。
TEMAH 由于其低沸点以及与水和臭氧的反应性，是 ALD 的理想选择。最重要的是，它在包括玻璃、氧化铟锡（ITO）和硅（100）在内的许多基板上的吸附是自限制的。研究人员还用它在 MoS2等二维材料上沉积 HfO2薄膜。
TEMAH 也是在MoS2光电晶体管上合成铁电铪-氧化锆和Hf1-xZrxO2薄膜的有用前体。研究人员还通过 ALD 交替脉冲 TEMAH 和氨沉积了氮化铪（Hf3N4）薄膜。
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特点和优势
- 热稳定性。
- 它具有足够的挥发性，适合用于气相沉积。
- 完全自我限制的表面反应。
警示用语：
Danger
危险分类
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3 - Water-react 1
靶器官
Respiratory system
补充剂危害
WGK
WGK 3
闪点(°F)
closed cup
闪点(°C)
closed cup
个人防护装备
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
法规信息
危险化学品
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