液相和气相沉积前体
化学溶液沉积和化学气相沉积是两种强大的技术，用于形成高质量和精密的薄膜和涂层。溶液沉积，也称为溶胶-凝胶处理，是一种常用的方法，用于从前驱体溶液制备各种无机和杂化复合材料。一种被称为“溶胶”的胶体悬浮液产生、转化为凝胶，随后转变为固体。然而，气相沉积使用许多技术来转换和利用气相的前驱体或目标材料，以在衬底上形成工程薄膜。我们为沉积技术选择的产品使您能够精确地定制薄膜及其涂层性能。根据您选择的方法和应用，探索我们广泛的高质量和可靠的薄膜沉积前驱体化学品。
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液相沉积前体
我们提供各种专用溶液沉积前体。它们可用于 55 种不同基本金属以及醋酸、乙酰丙酮、叔丁醇、异丙醇、苯氧化合物、乙氧化物、三叔丁醇、甲氧基和 2-乙基己酸酯，附带各种其他功能。为了满足您的独特化学要求，这些产品具有从 90% 到 99.999% 等各种纯度、精选溶剂配制的各种浓度以及特定的水合形式。
化学气相沉积（CVD）前体/原子层沉积（ALD）前体
我们为 CVD/ALD 应用提供优质挥发性有机金属、金属和金属有机前体。为了保证便捷性和安全性，这些前体都预先装入与各种沉积系统配合使用的钢瓶。
物理气相沉积材料
物理气相沉积（PVD）采用固体起始材料的气化物在衬底上沉积薄膜。我们提供用于各种 PVD 应用的高纯度溅射靶、颗粒、金属箔和蒸发段。应用包括微电子器件、电池电极、扩散屏障和光学涂层。
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