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表单
solid
质量水平
反应适用性
core: aluminum
mp
82-84 °C (lit.)
密度
0.865 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES字符串
CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C.CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C
InChI
1S/6C2H6N.2Al/c6*1-3-2;;/h6*1-2H3;;/q6*-1;2*+3
InChI key
JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N
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一般描述
Atomic number of base material: 13 Aluminum
应用
有机金属化学气相沉积法 (OMCVD) 中氮化铝 (AlN) 薄膜的前体。
警示用语：
Danger
危险声明
危险分类
Skin Corr. 1B - Water-react 1
补充剂危害
储存分类代码
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
WGK
WGK 3
闪点(°F)
70.0 °F - closed cup
闪点(°C)
21.1 °C - closed cup
个人防护装备
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
法规信息
新产品
Tris (dimethylamido) aluminum (III): An overlooked atomic layer deposition precursor.
Buttera SC, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 35(1), 01B128-01B128 (2017)
商品
High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication
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