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455199

Sigma-Aldrich

四（二甲基氨基）铪 (Ⅳ)

≥99.99%

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别名:
TDMAH, 四(二甲胺基)铪(IV)
线性分子式:
[(CH3)2N]4Hf
CAS号:
19782-68-4
分子量:
354.79
MDL编号:
MFCD01862473
UNSPSC代码:
12352300
PubChem化学物质编号:
24869038
NACRES:
NA.23

质量水平

100

检测方案

≥99.99%

形式

low-melting solid

反应适用性

core: hafnium

mp

26-29 °C (lit.)

密度

1.098 g/mL at 25 °C

SMILES字符串

CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

InChI key

ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N

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一般描述

四(二甲基氨基)铪(IV)是一种 有机金属化合物，由中心的铪原子（Hf） 和周围的四个二甲基氨基配体（NMe2）组成。通常用作CVD/ALD前=体， 生产高质量的Hf薄膜 。它是一种低熔点 固体。

应用

四(二甲基氨基)铪(IV)可用于：
  • 作为原子层沉积（ALD）前驱体，沉积用于先进半导体器件的氧化铪薄膜。
  • 作为制造聚合物衍生陶瓷纳米复合材料的前驱体。
  • 使用三(异丙基-环戊二烯基)铈[Ce(iPrCp)3]前驱体和H2O，通过ALD法在Ge衬底上制备HfO2、CeO2和Ce掺杂HfO2薄膜。
  • 在150−250 °C的低衬底温度下用TDMAH和氨制备Hf3N4薄膜。

分析说明

纯度：锆含量低于 ~2000ppm。

象形图

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

警示用语：

Danger

危险声明

H228,H261,H314

危险分类

Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

补充剂危害

EUH014

WGK

WGK 3

个人防护装备

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

法规信息

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J. Eur. Ceram. Soc., 35, 2007-2015 (2015)
Atomic layer deposition of CeO2/HfO2 gate dielectrics on Ge substrate
Wan Joo Maeng, et al.
Applied Surface Science, 321, 214-218 (2014)
Tetrakis(dimethylamido)hafnium Adsorption and Reaction on Hydrogen Terminated Si(100) Surfaces
Kejing Li, et al.
The Journal of Physical Chemistry C, 114, 14061-14075 (2010)

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