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质量水平
方案
99.99% trace metals basis (purity excludes ~2000 ppm zirconium.)
表单
liquid
反应适用性
core: hafnium
折射率
n20/D 1.424 (lit.)
沸点
90 °C/5 mmHg (lit.)
密度
1.166 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES字符串
CC(C)(C)O[Hf](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C
InChI
1S/4C4H9O.Hf/c4*1-4(2,3)5;/h4*1-3H3;/q4*-1;+4
InChI key
WZVIPWQGBBCHJP-UHFFFAOYSA-N
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一般描述
Atomic number of base material: 72 Hafnium
警示用语：
Warning
危险分类
Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3
靶器官
Respiratory system
储存分类代码
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 3
闪点(°F)
82.4 °F - closed cup
闪点(°C)
28 °C - closed cup
个人防护装备
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
法规信息
危险化学品
Sean W Depner et al.
ACS nano, 8(5), 4678-4688 (2014-04-23)
We demonstrate that the degree of branching of the alkyl (R) chain in a Hf(OR)4 precursor allows for control over the length of HfO2 nanocrystals grown by homocondensation of the metal alkoxide with a metal halide. An extended nonhydrolytic sol-gel
商品
High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication
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