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Merck
CN

435171

Sigma-Aldrich

二乙氧基甲基[(3-环氧乙烷基甲氧)丙基]硅烷

97%

别名:

(3-环氧丙氧基丙基)甲基二乙氧基硅烷, 3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷

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About This Item

经验公式(希尔记法):
C11H24O4Si
CAS号:
分子量:
248.39
Beilstein:
121965
EC 号:
MDL编号:
UNSPSC代码:
12352103
PubChem化学物质编号:
NACRES:
NA.23

质量水平

检测方案

97%

形式

liquid

折射率

n20/D 1.431 (lit.)

bp

122-126 °C/5 mmHg (lit.)

密度

0.978 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES字符串

CCO[Si](C)(CCCOCC1CO1)OCC

InChI

1S/C11H24O4Si/c1-4-14-16(3,15-5-2)8-6-7-12-9-11-10-13-11/h11H,4-10H2,1-3H3

InChI key

OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N

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一般描述

二乙氧基(3-缩水甘油基氧基丙基)甲基硅烷(GPMS)是一种环氧硅烷,可在多种材料的表面处理中用作硅烷偶联剂。这些硅烷还可通过改变基质和弹性材料的表面性质而用作粘附促进剂。

应用

GPMS可用于纤维素纳米晶体、二氧化硅纳米材料及多种其他基于硅胶基质颗粒的表面改性。它可通过将环氧硅烷基团与表面分子相连接而对这些表面进行官能化。
涂有二乙氧基(3-环氧丙基氧基丙基)甲基硅烷的盖玻片被用作样品固定器,用于静电固定颗粒,以便进行光学显微镜检查。{52}它可用于将环氧基引入Fe3O4SiO2纳米颗粒中。 {53}二乙氧基(3-环氧丙基氧基丙基)甲基硅烷的自组装单层(SAM)可以在硅片的氧化层上形成,使其具有硅氧烷功能。{54}

象形图

Exclamation mark

警示用语:

Warning

危险声明

危险分类

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

靶器官

Respiratory system

WGK

WGK 3

闪点(°F)

251.6 °F

闪点(°C)

122 °C

个人防护装备

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


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