形式
solid
质量水平
组成
Ni, 20.0-31.5% EDTA titration
反应适用性
core: nickel
reagent type: catalyst
mp
171-173 °C (lit.)
SMILES字符串
[Ni].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]2[CH][CH][CH][CH]2
InChI
1S/2C5H5.Ni/c2*1-2-4-5-3-1;/h2*1-5H;
InChI key
FOOKRXHSBKEWSE-UHFFFAOYSA-N
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应用
警示用语:
Danger
危险分类
Acute Tox. 4 Oral - Carc. 1A - Flam. Sol. 1 - Skin Sens. 1
WGK
WGK 3
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
个人防护装备
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
商品
近十年来出现了原子层沉积(ALD)技术以满足各种需求,包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.
Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.
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