形式
liquid
一般描述
缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）是一种用于微细加工的湿蚀刻剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）薄膜。它是一种缓冲剂的混合物，例如氟化铵（NH4F）和氢氟酸（HF）。浓缩HF对二氧化硅的蚀刻速度太快，无法实现良好的工艺控制，并且还会剥离用于光刻图案化的光刻胶。
应用
缓冲氧化物蚀刻剂(BOE) 10:1可用于刻蚀微机电系统 (MEMS)用碳化钛。也可用于旋涂掺杂材料(SOD)的蚀刻，用于开发导体-绝缘体-导体隧穿二极管。它还用于提高熔融石英器件的表面质量。
警示用语：
Danger
危险分类
Acute Tox. 2 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B
WGK
WGK 2
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
Study on surface roughness improvement of Fused Quartz after thermal and chemical post-processing
2016 IEEE International Symposium on Inertial Sensors and Systems, 31(8), 101-104 (2016)
Integration of wear-resistant titanium carbide coatings into MEMS fabrication processes
Radhakrishnan G, et al.
Tribology Letters, 8(2-3), 133-137 (2000)
New process development for planar-type CIC tunneling diodes
Choi K, et al.
IEEE Electron Device Letters, 31(8), 809-811 (2010)
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