description
Conductivity: 10-3-10-4 S/cm
Work function: 3.6 ± 0.1 eV
form
liquid (dispersion)
sheet resistance
10-20 Ω/sq (in combination with silver nanowires)
color
slightly yellow to clear
surface tension
23 mN/m±5 mN/m
viscosity
<4 mPa.s(20 °C)
capacity
≥0.9 % loading (Nanoparticles loading)
Quality Level
Legal Information
Kapton is a registered trademark of E. I. du Pont de Nemours and Company
Genes′Ink的产品。
Features and Benefits
产品优势：
- 在大气条件下（温度和压力）易于沉积。
- 良好的光学性能（可见光透射率>90%）。
- 非CMR墨水。
- 与ITO层和Ag NWs层兼容。
- 与大多数柔性基质兼容。
- 较低的干燥温度，可以在柔性基质上印刷。
General description
为印刷电子设备开发的Helios'Ink H-DZ41006半导体墨水特别适用于OPV和PV。
这种墨水在旋涂和狭缝挤压式涂布方面具有很好的性能，并且兼容各种柔性基质（Kapton®，PET，PET/ITO等），但也兼容玻璃/ITO。
Helios'Ink H-DZ41006半导体油墨能够降低TCE的粗糙度，并且对电导率和透明度无负面影响，从而显著改善了设备性能。同时，还增加了设备的使用寿命。
Helios的Ink H-DZ41006的使用为电子传输层（ETL）提供了高性能。此外，与标准ETL相比，即使在更高的厚度下，其光电转换效率（PCE）也不会降低。
这种墨水在旋涂和狭缝挤压式涂布方面具有很好的性能，并且兼容各种柔性基质（Kapton®，PET，PET/ITO等），但也兼容玻璃/ITO。
Helios'Ink H-DZ41006半导体油墨能够降低TCE的粗糙度，并且对电导率和透明度无负面影响，从而显著改善了设备性能。同时，还增加了设备的使用寿命。
Helios的Ink H-DZ41006的使用为电子传输层（ETL）提供了高性能。此外，与标准ETL相比，即使在更高的厚度下，其光电转换效率（PCE）也不会降低。
Preparation Note
一般处理指南：
可以在超声波浴中均质处理5分钟，除去所有聚集物。
干燥条件：烘箱，红外烘箱，真空烘箱。
清洁溶液：乙醇/丙酮。
可以在超声波浴中均质处理5分钟，除去所有聚集物。
干燥条件：烘箱，红外烘箱，真空烘箱。
清洁溶液：乙醇/丙酮。
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Aquatic Chronic 3 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 2 - STOT SE 3
target_organs
Central nervous system
存储类别
3 - Flammable liquids
wgk
WGK 1
flash_point_f
58.1 °F
flash_point_c
14.5 °C
法规信息
危险化学品
此项目有
商品
Professors Tokito and Takeda share design principles and optimization protocols for organic electronic devices, focusing on flexibility and low cost.
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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