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描述
Conductivity: 10-3-10-4 S/cm
Work function: 3.6 ± 0.1 eV
质量水平
表单
liquid (dispersion)
薄层电阻
10-20 Ω/sq (in combination with silver nanowires)
颜色
slightly yellow to clear
表面张力
23 mN/m±5 mN/m
粘度
<4 mPa.s(20 °C)
容量
≥0.9 % loading (Nanoparticles loading)
一般描述
为印刷电子设备开发的Helios'Ink H-DZ41006半导体墨水特别适用于OPV和PV。
这种墨水在旋涂和狭缝挤压式涂布方面具有很好的性能，并且兼容各种柔性基质（Kapton，®PET，PET/ITO等），但也兼容玻璃/ITO。
Helios'Ink H-DZ41006半导体油墨能够降低TCE的粗糙度，并且对电导率和透明度无负面影响，从而显著改善了设备性能。同时，还增加了设备的使用寿命。
Helios'Ink H-DZ41006的使用为ETL层提供了高性能。 此外，与标准ETL相比，即使是更大厚度也不保留PCE。
这种墨水在旋涂和狭缝挤压式涂布方面具有很好的性能，并且兼容各种柔性基质（Kapton，®PET，PET/ITO等），但也兼容玻璃/ITO。
Helios'Ink H-DZ41006半导体油墨能够降低TCE的粗糙度，并且对电导率和透明度无负面影响，从而显著改善了设备性能。同时，还增加了设备的使用寿命。
Helios'Ink H-DZ41006的使用为ETL层提供了高性能。 此外，与标准ETL相比，即使是更大厚度也不保留PCE。
特点和优势
产品优势：
- 在大气条件下（温度和压力）易于沉积。
- 良好的光学性能（可见光透射率>90%）。
- 非CMR墨水。
- 与ITO层和Ag NWs层兼容。
- 与大多数柔性基质兼容。
- 较低的干燥温度，可以在柔性基质上印刷。
制备说明
一般处理指南：
可以在超声波浴中均质处理5分钟，除去所有聚集物。
干燥条件：烘箱，红外烘箱，真空烘箱。
清洁溶液：乙醇/丙酮。
可以在超声波浴中均质处理5分钟，除去所有聚集物。
干燥条件：烘箱，红外烘箱，真空烘箱。
清洁溶液：乙醇/丙酮。
法律信息
Genes′Ink的产品。
Kapton is a registered trademark of E. I. du Pont de Nemours and Company
警示用语：
Danger
危险分类
Aquatic Chronic 3 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 2 - STOT SE 3
靶器官
Central nervous system
储存分类代码
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 1
闪点(°F)
58.1 °F
闪点(°C)
14.5 °C
法规信息
危险化学品
商品
Professors Tokito and Takeda share design principles and optimization protocols for organic electronic devices, focusing on flexibility and low cost.
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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