质量水平
反应适用性
reaction type: C-C Bond Formation
折射率
n20/D 1.48 (lit.)
bp
59 °C/0.9 mmHg (lit.)
密度
0.861 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES字符串
CN(C)\C(N(C)C)=C(\N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C10H24N4/c1-11(2)9(12(3)4)10(13(5)6)14(7)8/h1-8H3
InChI key
CBXRMKZFYQISIV-UHFFFAOYSA-N
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应用
作为还原剂
作为以下过程的反应物:
- 双氧合反应
- 将铝阴离子插入C-N键
- 与氧气的化学发光反应
警示用语:
Danger
危险声明
危险分类
Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B
WGK
WGK 3
闪点(°F)
closed cup
闪点(°C)
closed cup
个人防护装备
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
法规信息
商品
In 2001, Professor William Dolbier, Jr., at the University of Florida reported1 an approach to nucleophilic trifluoromethylation based on the generation of a trifluoromethyl anion using CF3I in the presence of a powerful twoelectron reductant, tetrakis(dimethylamino)ethylene (TDAE)
在2001年,佛罗里达大学的William Dolbier,Jr.教授报告了一种亲核三氟甲基化的方法,该方法基于在强力双电子还原剂四(二甲基氨基)乙烯(TDAE)存在下使用CF3I生成三氟甲基阴离子。
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