grade
standard
composition
volatiles, 85%
color
orange
bp
100 °C/1 atm
density
1.16 g/mL at 25 °C
Quality Level
General description
- 外观- 橙色透明
- pH - 酸性
- 40 °C下蚀刻速度 - 40 Å/秒
- 蚀刻能力（ ~70%速度下降) - 65 克/加仑
- 保质期- 1 年
- 储存条件 - 室温
- 过滤 - 0.2 µm
- 推荐操作温度 - 20-80 °C （30-40 °C 最常见）
- 冲洗 - 去离子水r
- 光致抗蚀剂建议 - KLT6000 系列、KLT 5300 系列、HARE SQT （SU-8型）、 TRANSIST或PKP -308PI
- 相容的材料 - 金、钛、氧化物、氮化物、硅
- 不相容的材料 - 铝、镍、铜、镍铬合金
- 相容的塑料 - HDPE、PP、PTFE、PFA、PVC
- 各向同性- 具有各向同性
- 不相容的化学品- 强碱
我们的铬蚀刻剂是一种高纯度硝酸铈铵系统，用于铬和氧化铬薄膜精确、洁净的蚀刻。兼容阳性和阴性光致抗蚀剂。我们的铬蚀刻剂通过过滤去除了0.2 微米以上的所有颗粒。 蚀刻温度因薄膜厚度不同而不同。室温下蚀刻时间在15秒至60秒之间。铬蚀刻剂应在通风橱中操作。
硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。
铬蚀刻剂是铬基溶液，可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s，可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。
Application
用于室温或高温条件。蚀刻干净，省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意，应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。
该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN，但对Si3N4, SiO2, Ti, 和 W表面没有影响
Features and Benefits
设计用于铬和氧化铬薄膜的精确、清洁蚀刻。与正性和负性光致抗蚀剂均可相容。经 0.2 微米孔过器过滤以去除微粒。
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Aquatic Chronic 2 - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Ox. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1
supp_hazards
存储类别
5.1B - Oxidizing hazardous materials
wgk
WGK 3
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
Pressure-driven Fermi surface reconstruction of chromium
Stillwell RL, et al.
Physical Review, 88(12) (2013)
Thermoelectric microconverter for energy harvesting systems.
Carmo J, et al.
IEEE Transactions on Industrial Electronics, 57(3), 861-867 (2010)
F J Alfaro-Mozaz et al.
Nature communications, 8, 15624-15624 (2017-06-08)
Polaritons in layered materials-including van der Waals materials-exhibit hyperbolic dispersion and strong field confinement, which makes them highly attractive for applications including optical nanofocusing, sensing and control of spontaneous emission. Here we report a near-field study of polaritonic Fabry-Perot resonances
Reconstituting Functional Microtubule-Barrier Interactions.
Methods in Cell Biology, 120(5), 69-90 (2014)
The regeneration and recycle of chromium etching solutions using concentrator cell membrane technology.
Chaudhary AJ, et al.
Chemosphere, 62(5), 841-846 (2006)
实验方案
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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Technical Bulletins
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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