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保质期
1 yr (cool area away from direct sunlight)
质量水平
pH值（酸碱度）
<2 (20 °C)
沸点
204-304 °C (lit.)
密度
1.00 g/mL at 25 °C (lit.)
储存温度
2-8°C
一般描述
低 pH 值配方，用于去除固化到各种基底上的光致抗蚀剂。不腐蚀金属和氧化物。不含氯化烃、铬酸盐、酚或磷酸盐。在室温和高温下均性能良好。
作为负性光致抗蚀剂套装 654892 的一部分提供
警示用语：
Danger
危险分类
Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1
储存分类代码
8A - Combustible corrosive hazardous materials
WGK
WGK 3
闪点(°F)
204.8 °F
闪点(°C)
96 °C
实验方案
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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