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ReagentPlus®
方案
99.99%
杂质
≤0.001% N compounds
≤0.004% S compounds
≤0.005% silica
≤0.01% NH4OH ppt.
≤0.01% insolubles
<200 ppm total metallic impurities
mp
891 °C (lit.)
痕量阴离子
chloride (Cl-): ≤0.003%
phosphate (PO43-): ≤0.001%
痕量阳离子
Ca and Mg precipitate: ≤0.01%
Fe: ≤5 ppm
Na: ≤0.02%
heavy metals: ≤5 ppm
SMILES字符串
[K+].[K+].[O-]C([O-])=O
InChI
1S/CH2O3.2K/c2-1(3)4;;/h(H2,2,3,4);;/q;2*+1/p-2
InChI key
BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L
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法律信息
ReagentPlus is a registered trademark of Merck KGaA, Darmstadt, Germany
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