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方案
98%
表单
liquid
折射率
n20/D 1.428 (lit.)
沸点
86-87 °C (lit.)
密度
0.715 g/mL at 25 °C (lit.)
储存温度
−20°C
SMILES字符串
[H][Si](C)(C)[Si]([H])(C)C
InChI
1S/C4H14Si2/c1-5(2)6(3)4/h5-6H,1-4H3
InChI key
RDWAGGBALVFUHB-UHFFFAOYSA-N
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商品
atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer
Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes
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