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406481

Sigma-Aldrich

二羟基硅酞菁

Dye content 75 %

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别名:
二羟基硅酞菁, 二羟基（酞菁）硅
经验公式（希尔记法）:
C32H18N8O2Si
CAS号:
19333-15-4
分子量:
574.62
MDL编号:
MFCD00192439
UNSPSC代码:
12352103
PubChem化学物质编号:
57650008
NACRES:
NA.23

形式

solid

质量水平

200

组成

Dye content, 75%

λmax

672 nm

SMILES字符串

O[Si]1(O)n2c3nc4nc(nc5n1c(nc6nc(nc2c7ccccc37)c8ccccc68)c9ccccc59)c%10ccccc4%10

InChI

1S/C32H18N8O2Si/c41-43(42)39-29-21-13-5-6-14-22(21)31(39)37-27-19-11-3-4-12-20(19)28(34-27)38-32-24-16-8-7-15-23(24)30(40(32)43)36-26-18-10-2-1-9-17(18)25(33-26)35-29/h1-16,41-42H/b35-25-,35-29-,36-26-,36-30-,37-27-,37-31-,38-28-,38-32-

InChI key

IKEIGECHKXPQKT-GMKHRMEJSA-N

相关类别

应用

  • 掺杂半导体基二羟基硅酞菁和二炔酸（dienynoic acid）的结构确定、表征和计算研究：该论文探索了二羟基硅酞菁的化学掺杂及其与二炔酸的相互作用（Vergara et al., 2024）。
  • 硅（IV）酞菁包埋的聚（乙烯醇）基抗菌和抗污界面的简易制备：该论文重点探讨了抗菌和抗污界面中二羟基硅酞菁的制备和应用（Strokov et al., 2020）。
  • … 乙氧基取代的以及辅助性（4-苯基哌嗪-1-基）丙烷氧基二取代的硅酞菁及其电化学性质：该论文详细介绍了二羟基硅酞菁及其衍生物的合成和电化学性质（Biyiklioglu and Alp, 2015）。
  • 用于光电应用的甲基氢氧化硅酞菁掺杂的PVA膜：该论文考察了用于光电应用的掺杂PVA膜中甲基氢氧化硅酞菁的性质（Qashou et al., 2019）。

象形图

Exclamation mark
GHS07

警示用语：

Warning

危险声明

H315,H319,H335

危险分类

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

靶器官

Respiratory system

WGK

WGK 3

闪点(°F)

Not applicable

闪点(°C)

Not applicable

个人防护装备

dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves

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