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About This Item
经验公式（希尔记法）:
C6H14Cl2Si
CAS号:
分子量:
185.17
Beilstein:
1736244
MDL编号:
UNSPSC代码:
12352001
PubChem化学物质编号:
NACRES:
NA.22
推荐产品
质量水平
方案
≥97.0% (GC)
表单
liquid
折射率
n20/D 1.444
沸点
66 °C/27 mmHg (lit.)
密度
1.026 g/mL at 20 °C (lit.)
SMILES字符串
CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C
InChI
1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3
InChI key
GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N
其他说明
基团保护试剂；引入的两个醇与"系链技术"密切相关
警示用语：
Danger
危险声明
危险分类
Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B
储存分类代码
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 3
闪点(°F)
109.4 °F - closed cup
闪点(°C)
43 °C - closed cup
个人防护装备
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
法规信息
新产品
J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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