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345156

Sigma-Aldrich

四醋酸硅

98%

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别名:
Tetraacetoxysilane
线性分子式:
Si(OCOCH3)4
CAS号:
562-90-3
分子量:
264.26
Beilstein:
994868
EC 号:
209-239-7
MDL编号:
MFCD00026184
UNSPSC代码:
12352100
PubChem化学物质编号:
24861298
NACRES:
NA.22

蒸汽密度

>1 (vs air)

质量水平

200

检测方案

98%

bp

148 °C/5 mmHg (lit.)

mp

111-115 °C (lit.)

储存温度

−20°C

SMILES字符串

CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O

InChI

1S/C8H12O8Si/c1-5(9)13-17(14-6(2)10,15-7(3)11)16-8(4)12/h1-4H3

InChI key

YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N

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一般描述

正硅酸四乙酯是四氢化硅和醇盐的替代物，用于低温 SiO2 生产。在无水条件下，正硅酸四乙酯与乙醇反应，生成硅胶和乙酸乙酯。据报道，正硅酸四乙酯一种是溶胶-凝胶前体。

应用

正硅酸四乙酯可用于通过直接光化学气相沉积法制备二氧化硅薄膜。正硅酸四乙酯可以用作与单官能双配位基Schiff碱合成硅配合物的原料。

象形图

Corrosion
GHS05

警示用语：

Danger

危险声明

H314

危险分类

Skin Corr. 1B

WGK

WGK 3

闪点(°F)

Not applicable

闪点(°C)

Not applicable

个人防护装备

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

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Synthesis of some ketimine derivatives of silicon (IV).
Singh RV and Tandon JP.
J. Prakt. Chem., 321(1), 151-158 (1979)
Silicon tetraacetate as a sol-gel precursor.
Coltrain BK, et al.
Journal of Sol-Gel Science and Technology, 3(2), 83-90 (1994)
Silicon dioxide thin films prepared by chemical vapor deposition from silicon tetraacetate.
Maruyama T and Shionoya J.
Jpn J. App. Phys., Part I, 28(12A), L2253-L2253 (1989)

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