质量水平
检测方案
99.99% trace metals basis (purity excludes zirconium)
形式
crystalline
杂质
≤200.0 ppm Trace Metal Analysis
SMILES字符串
O.Cl[Hf](Cl)=O
InChI
1S/2ClH.Hf.H2O.O/h2*1H;;1H2;/q;;+2;;/p-2
InChI key
ONMNZQKEFYFCCQ-UHFFFAOYSA-L
一般描述
水合度 6-8
应用
HfGeO4 和 HfGeO4:Ti(都可用于 X 射线荧光粉)的原料。
警示用语:
Danger
危险声明
危险分类
Skin Corr. 1B
WGK
WGK 3
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
个人防护装备
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Inorganic chemistry, 37(6), 1352-1357 (2001-10-24)
The gel chemistry of germanium is explored through the formation and composition of a hydrous metal oxide precursor gel used in the preparation of the HfGeO(4) and HfGeO(4):Ti X-ray phosphors. The enhanced solubility of hexagonal GeO(2) in dilute ammoniacal solutions
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