蒸汽密度
3.4 (vs air)
质量水平
蒸汽压
0.16 mmHg ( 20 °C)
检测方案
99%
自燃温度
870 °F
expl. lim.
7.1 %
bp
200 °C (lit.)
mp
51-56 °C (lit.)
SMILES字符串
O=C1OC(=O)C=C1
InChI
1S/C4H2O3/c5-3-1-2-4(6)7-3/h1-2H
InChI key
FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N
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一般描述
马来酸的结构由四个碳分子以及两端的羧酸基团组成,中心碳原子之间有一个双键。马来酸酐在其环状分子中具有五个原子,不饱和键在引发剂存在下经历自由基聚合。
应用
- 在高密度聚乙烯(HDPE)的接枝过程中,通过单体微胶囊化技术,可以将增强的功能和改进的性能引入聚合物中,用于功能涂层、膜或表面处理、粘合剂和涂层。
- 在聚乳酸(PLA)的功能化中,并在天然纤维生物复合材料中充当偶联剂。功能化改善了PLA和天然纤维之间的相容性和界面粘附,从而增强了所得到的生物复合材料的机械性能并扩大了其应用范围。
- 马来酸酐可用于合成不饱和聚酯树脂和用作合成重要产品的反应物,例如农业化学品、润滑剂添加剂,和食品酸化剂。
外形
警示用语:
Danger
危险分类
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Resp. Sens. 1 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1A - STOT RE 1 Inhalation
靶器官
Respiratory system
补充剂危害
WGK
WGK 1
闪点(°F)
217.4 °F
闪点(°C)
103 °C
个人防护装备
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
法规信息
商品
近十年来出现了原子层沉积(ALD)技术以满足各种需求,包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.
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