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关于此项目
产品名称
对苯二甲酰氯, ≥99%, flakes
InChI key
LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N
InChI
1S/C8H4Cl2O2/c9-7(11)5-1-2-6(4-3-5)8(10)12/h1-4H
SMILES string
ClC(=O)c1ccc(cc1)C(Cl)=O
vapor density
7 (vs air)
vapor pressure
0.02 mmHg ( 25 °C)
assay
≥99%
form
flakes
bp
266 °C (lit.)
mp
79-81 °C (lit.)
solubility
ethanol: soluble 100 mg/mL, clear, colorless
functional group
acyl chloride
Quality Level
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Application
General description
Legal Information
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Acute Tox. 3 Inhalation - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1A - STOT SE 3
target_organs
Respiratory system
存储类别
6.1A - Combustible acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials
wgk
WGK 1
flash_point_f
356.0 °F - closed cup
flash_point_c
180 °C - closed cup
ppe
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
法规信息
商品
Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.
近十年来出现了原子层沉积(ALD)技术以满足各种需求,包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验,包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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